濕度控制是無塵車間生產必需具備的重要條件，相對濕度是無塵車間、潔凈室運作過程中一個常用的環(huán)境控制條件。半導體無塵車間、潔凈室中的典型的相對濕度的目標值大約控制在30至50%的范圍內，允許誤差在±1%的狹窄的范圍內，例如光刻區(qū)或者在遠紫外線處理(DUV)區(qū)甚至更小而在其他地方則可以放松到±5%的范圍內。
為了把無塵車間溫濕度等要求保持規(guī)定的范圍內，廠家需要支付資金來支持其運轉。為什么要花這么多錢來控制無塵車間或潔凈室的相對濕度呢?原因很簡單!因為相對濕度有許多因素會影響無塵車間或潔凈室的整體性能，如相對濕度太大或太小就會出現以下現象:
1、細菌生長；
2、在室內工作人員會感到不舒服；
3、出現靜電荷；
4、金屬腐蝕；
5、水汽冷凝；
6、光刻的退化；
7、材料出現吸濕現象等。
細菌和其他生物污染(霉菌，病毒，真菌，螨蟲)在相對濕度超過60%的環(huán)境中可以活躍地繁殖。在相對濕度處于40%至60%的范圍之間時，可以使細菌的影響以及呼吸道感染降至最低。
高濕度實際上減小了無塵車間、潔凈室表面的靜電荷積累──這是大家希望的結果。較低的濕度比較適合電荷的積累并成為潛在的具有破壞性的靜電釋放源。當相對濕度超過50%時，靜電荷開始迅速消散，但是當相對濕度小于30%時，它們可以在絕緣體或者未接地的表面上持續(xù)存在很長一段時間。
相對濕度在35%到40%之間可以作為一個令人滿意的折中，半導體無塵車間、潔凈室一般都使用額外的控制裝置以限制靜電荷的積累。
很多化學反應的速度，包括腐蝕過程，將隨著相對濕度的增高而加快。所有暴露在無塵車間、潔凈室周圍空氣中的表面都很快地被覆蓋上至少一層單分子層的水。當這些表面是由可以與水反應的薄金屬涂層組成時，高濕度可以使反應加速。幸運的是，一些金屬，例如鋁，可以與水形成一層保護型的氧化物，并阻止進一步的氧化反應；但另一種情況是，例如氧化銅，是不具有保護能力的，因此，在高濕度的環(huán)境中，銅制表面更容易受到腐蝕。
在半導體無塵車間、潔凈室中最迫切需要適當控制的是光刻膠的敏感性。由于光刻膠對相對濕度極為敏感的特性，它對相對濕度的控制范圍的要求是最嚴格的水準。
總而言之半導體無塵車間、潔凈室中控制相對濕度不是隨意的。如今隨著科技的發(fā)展，除濕設備已廣泛應用于人們的日常生活、工業(yè)生產、加工儲存中。
根據上述要求，無塵車間用轉輪除濕機會更好的控制其室內的溫濕度要求，特別是在一些制藥、食品加工、電子加工中對無塵車間中的溫濕度要求是非常的高，普通的除濕是無法達到其要求。而普瑞除濕設備中的轉輪除濕機采用世界一流的超級硅膠/負荷分子篩轉輪，可以用于要求露點溫度低到-65℃除濕領域。
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